台积电在今日举办的2022技术论坛上,首度推出采用奈米片电晶体之下一世代先进N2制程技术,也就是2nm 制程!

据官方表示,对比N3,N2技术在相同功耗下,速度增快10~15%,或在相同速度下,功耗降低25~30%,开启了高效效能的新纪元。 N2将采用奈米片电晶体架构(nanosheet transistor architecture),取代FinFET(鳍式场效应晶体管),外界普遍认为,纳米片电晶体就是台积电版的GAAFET(环绕栅极晶体管)。

除了行动运算的基本版本,官方还说到 N2技术平台亦涵盖高效能版本及完备的小晶片整合解决方案。而N2预计于2025年开始量产。

此外,根据台积电最新技术路线图,第一代N3(3nm)预计于2022年下半年进入量产,3nm也会比较长寿,后续还有N3E、N3P和N3X。N3 将搭配创新的TSMC FINFLEX架构,提供晶片设计人员无与伦比的灵活性。 TSMC FINFLEX
技术提供多样化的标准元件选择:3-2鳍结构支援超高效能、2-1鳍结构支援最佳功耗效率与电晶体密度、2-2鳍结构则是支援平衡两者的高效效能。